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干冰清洗机清洗干燥射频结构……  


摘要

干冰清洗是目前公知的一种清洁方法,可以减少有害的暗电流和像RF枪一样的场发射,例如欧洲的XFEL,FLASH和REGAE。 这导致了清洁更长RF结构的想法,特别是欧洲XFEL的3GHz横向偏转结构。 我们开发了一种清洁装置,能够在水平位置清洁长达2米的结构,内径不超过40毫米。 此外,该装置还可以清洁9细胞TESLA型Nb腔。 将给出RF测试的技术布局和结果的报告。

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在过去十年中,使用二氧化碳干冰雪清洁清洁FL射频结构(例如FLASH和PITZ的射频照相枪)成为减少从内表面产生的颗粒产生的有害暗电流的公认方法。铜结构[1]。可以看出,干冰清洁可将暗电流降低一个数量级。当使用操作参数运行时,枪3.1在FLASH处的当前暗电流约为5μA,其中极限值为20uA。以前的清洗方法,如高压水(HPWR)或酒精冲洗,会导致数百μA的暗电流。这些非常好的成就导致了REGAE和EXFEL的RF-Photo Guns清洁工作。由于3 GHz铜REGAE-Gun从未用水或酒精等液体清洗,我们在这里没有直接比较。但随后的RF调节非常快。花费不超过2周达到100MV / m的梯度[2]。在运行参数下运行时,EXFEL喷枪的测量结果导致20μA范围内的暗电流。这使我们想到了从清洁角度清理更具挑战性的结构,例如横向偏转结构(TDS) [3]为EXFEL。最初干冰雪清洁项目开始显示,如果能够以这种方式清洁装备齐全的超导铌腔,并且作为HPWR之后的最后一步。使用原始的腔体清洁装置,只能清洁1个单元的测试腔,而新的设置允许我们在水平位置清洁9个单元的1.3 GHz铌腔。

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结论

对于清洁由铜制成的RF结构,干冰清洁方法是经过验证且完善的程序。 减少可移除颗粒的数量导致成功减少不希望的暗电流。 与湿式清洁方法相比,没有湿气或流体残留物导致与真空相关的明显缩短的调试时间。 对于较长的RF结构(如TDS),水平位置清洁是最合适的方法。 关于9细胞铌腔的清洁,我们可以证明新的清洁装置也可用于空腔。 我们可以证明清洁过程本身是有效的。 在我们看来,9芯铌腔的不良RF测试结果不是由不适当的清洁造成的,而是与清洁后腔体的非最佳处理和组装有关。 对于未来的测试,我们肯定必须采用完善的9芯腔组装程序。

 
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